光刻机是半导体制造的核心设备，用于将电路图案通过光学投影转移到硅片上‌。‌‌

工作原理

光刻机通过光源照射掩模版，将预先设计的电路图案投影到涂有光刻胶的硅片表面，经显影和刻蚀后形成精密电路结构 。主要组件包括光源系统、照明系统、投影物镜、掩模版台和硅片台 。曝光后光刻胶发生化学反应，未曝光区域被溶解，露出下方硅片进行刻蚀 。‌‌

主要分类

‌EUV 光刻机‌：使用 13.5 纳米极紫外光源，可制造 7nm、5nm、3nm 等先进制程芯片，ASML 独家垄断。

‌DUV 光刻机‌：使用 193 纳米深紫外光源，用于 28nm 以上成熟制程，ASML、尼康、佳能均有生产。

‌掩模对准光刻机‌：分辨率到微米级，用于 LED、MEMS 传感器、功率器件等特色工艺。‌‌‌

应用领域

光刻机主要用于制造 CPU、GPU、内存芯片等各类集成电路，也应用于先进封装、微机电系统(MEMS)、平板显示等领域 。全球主要厂商包括荷兰 ASML、日本尼康和佳能，其中 ASML 在高端 EUV 光刻机市场占据主导地位 。‌‌

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